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mim电容因天线效应发生击穿问題
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作者:
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时间:
2020-3-2 09:19
标题:
mim电容因天线效应发生击穿问題
文章简介:那么问题来了,电路设计把下极板接GND,在CHIP级,GND用了大量的M
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27 分钟前
如图,这个MIM电容上下极板都用到ME6,ME6就是TOP metal,CTM为上极板,CBM是下极板。
为防止刻蚀过程因antenna引起电容击穿,design rule 规定0.5<T/B<2,T:上极板ME6的面积,下极板ME6的面積.
那么问题来了,电路设計把下极板接GND,在CHIP级,GND 用了大量的ME6,T/B<<0.5,过不了驗证,工艺商给的建议是在上下极板接一个diode,只是理想的认为ME6上過多的电荷会通过diode泄放掉,没有designrule 可以检查,也没有说100%能行。
请问工艺商给的建议是否合理,如果合理,为什么电荷优先从diode流过?
作者:
木村哥哥
时间:
2020-3-2 09:19
就先哪个的击穿电压低哪个就先击穿
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