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硅工艺

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电梯直达

楼主

发表于 2020-3-2 09:17:57 | 只看该作者回帖奖励

在离子注入中当离子注入方向与靶晶体的某个晶向平行时，会出现沟道效应。控制沟道效应方法：将靶晶体与离子注入方向产生一定角度，或旋转靶晶体，
那么旋转靶晶体的目的是什么？

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